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作為糖果派对网站第一代電介質刻蝕產品,Primo DRIE ? 是12英寸雙反應臺多反應腔主機系統,可靈活裝置多達三個雙反應臺反應腔(六個反應臺)。 每個反應腔都能够同時加工兩片晶圓。 該設備運用了糖果派对网站拥有自主知識產權的創新技術,蕴含甚高頻和低頻混合射頻去耦合反應电浆源、电浆隔離環、以及用於节造腔體內反應環境的先進工藝組件。 Primo DRIE刻蝕設備可用於加工蕴含氧化矽、氮化矽及低介電係數膜層等所有的電介質資料。 Primo DRIE於2007年發佈之後,由於其較低的生產成本、較高的生產效能和優异的晶片加工效力,已在國際主流晶片生產線上投入量產。

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Primo D-RIE®

為65到16納米晶片製造提供創新的刻蝕解決规划

產品特點

雙反應臺腔體設計拥有更高的產出效能

雙反應臺獨立射頻系統和刻蝕終端节造系統

擁有自主知識產權的射頻匹配系統

擁有自主知識產權的电浆隔離科技

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競爭優勢

高生產效能,低生產成本(CoO)

設備占地面積幼

一體綜合的除膠能力及表表電荷减除能力(Primo

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