Primo SSC AD-RIE?是糖果派对网站于2013年推出的单反映台电介质刻蚀产品，在Primo AD-RIE?产品技术和Primo平台概想的基础上，通过在一个平台上集成六个单反映台以优化产能。除了可独立输命运体的单反映台腔体设计以表，为应对2x纳米以下出格是接触孔刻蚀等关键造程的挑战，该设备还拥有以下个性：同步脉冲射频系统、可冷却聚焦环工艺组件和甚低压气体抽运系统等。Primo SSC AD-RIE有利于处置多层薄膜刻蚀的微负载问题、极端边缘描摹问题以及接触孔刻蚀的终端节造问题。Primo SSC AD-RIE已在主流客户16纳米芯片出产线上不变量产。
为26到10纳米芯片造作提供创新的刻蚀解决规划
拥有独立气体输运系统的单反映台腔体设计
多区气体调节以及双区静电吸盘温度节造
高抽气率，大容量分子泵
双级同步脉冲射频系统（低频和高频）
可冷却聚焦环工艺组件，提升晶圆边缘机能
高高低电极面积比，以利用于深邃宽比结构刻蚀
高电介质资料刻蚀速度，多伎俩刻蚀均匀度调节
双级同步脉冲射频系统
先进气体抽运系统，以进一步扩大工艺窗口
中深邃宽比结构刻蚀的低成本解决规划
