作为糖果派对网站第一代电介质刻蚀产品，Primo DRIE?是12英寸双反映台多反映腔主机系统，可矫捷装置多达三个双反映台反映腔（六个反映台）。每个反映腔都能够同时加工两片晶圆。该设备使用了糖果派对网站拥有自主知识产权的创新技术，蕴含甚高频和低频混合射频去耦合反映等离子体源、等离子体隔离环、以及用于节造腔体内反映环境的先进工艺组件。Primo DRIE刻蚀设备可用于加工蕴含氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质资料。Primo DRIE于2007年颁布之后，由于其较低的出产成本、较高的出产效能和优异的芯片加工机能，已在国际主流芯片出产线上投入量产。
为65到16纳米芯片造作提供创新的刻蚀解决规划
双反映台腔体设计拥有更高的产出效能
双反映台独立射频系统和刻蚀终端节造系统
占有自主知识产权的射频匹配系统
占有自主知识产权的等离子体隔离技术
逾越产效能，低出产成本（CoO）
设备占地面积幼
一体整合的除胶能力及表表电荷减除能力（Primo iDEA?系统）
