Primo iDEA?（即“双反映台刻蚀除胶一体机”）源于糖果派对网站的一个新理想 ，即：将一个或两个双反映台D-RIE或AD-RIE工艺？椤⒑鸵桓鲈冻痰壤胱犹逶闯浩鳎―sA）反映腔整合在统一个平台上。糖果派对网站的远程等离子体源除胶器选取了双反映台腔体设计 ，顶置的远程等离子体源（RPS）产生的活性反映物质 ，被均匀地输送到晶圆表表以移除光刻胶。这种步骤可能提高光刻胶移除效能 ，并降低等离子体直接接触晶圆的机遇。这对于一些客户来说尤为沉要 ，其芯片器件对表表电荷极其敏感 ，存在等离子体诱发危险（PID）的潜在风险。为相识决这方面的顾虑 ，客户通常要支出巨大的人力和物力批改整合规划 ，或者为每个步骤（例如光刻胶移除）添置专用设备。占有Primo iDEA整合系统后 ，客户能够在统一个平台上矫捷地进行芯片刻蚀和光刻胶移除 ，显著削减设备占地面积 ，提逾越产效能。Primo iDEA提供了拥有成本优势的解决规划。
为芯片刻蚀和光刻胶移除提供创新的整合解决规划
远程等离子体源
高效能除胶
高效离子隔滤 ，以预防对器件造成等离子体诱发危险
双反映台刻蚀与除胶整合一体机 ，显著减幼占地面积
使用Primo iDEA?系统设计以包办单独的刻蚀和除胶系统 ，节俭成本20%以上
